發布時間:2020-08-26 瀏覽次數:2854
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設備簡介: 均溫氧化擴散爐應用于半導體器件、分立器件、光電子器件、電力電子器件、太陽能電池及大規模集成電路制造等領域對晶片進行擴散、氧化、退火、合金及燒結等工藝,可用于2-8英寸工藝尺寸 |
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配置詳情
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設備特點: 1.溫場均勻,恒溫區長度及精度:300~1250mm 800~1200℃±1℃
2.具有強大的軟件功能,NBD-101EP嵌入式操作系統,用戶可以方便地修改工藝控制參數,并可隨時顯示各種工藝狀態;配有故障自診斷軟件;
6.可存儲多組PID參數供系統運行調用功能,具有多點溫度補償 |
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可配工藝管外徑 |
爐管外徑152mm 適用于3";爐管外徑252mm 適用于6"; 爐管外徑300mm 適用于8" |
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溫度控制范圍 |
300~1150 ℃ |
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恒溫區長度及精度 |
300~1250mm(依客戶要求定) 300~800 ℃±1.5℃, 800~1100 ℃±1℃ |
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可控升降溫速率 |
升溫速率:≦15℃/min 降溫速率≦5℃/min |
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加熱區個數 |
3區,4區,5區,6區(依客戶要求定) |
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送料方式 |
手動送料 |
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冷卻系統 |
水冷2-4Kgf/cm2,8L/min;+上接排風冷≈25m3/min; |
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軸向溫場分布 |
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徑向溫場分布 |
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控制系統 |
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1.燒結工藝曲線設置:動態顯示設置曲線,設備燒結可預存多條工藝曲線,每條工藝曲線可自由設置; |
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加熱腔體 |
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采用優質加熱絲:KANTHAL及HRE 絕熱材料:晶體纖維等 絕緣子:高純剛玉,間距依據溫場調節 端口過渡環:氧化鋁纖維真空成型。 溫區:3段、4段、5段、6段
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真空密封系統 |
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真空度:≤10Pa(機械泵) |
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供氣系統 |
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采用質子流量計控制氣體流速,與設備集成為一體; |
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可選配項目 |
1. 出料口排毒氣柜; 2. 凈化出料臺; 3. 自動石英漿推拉舟機構 |
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設備使用注意事項 |
1. 裝取樣片必須帶石棉手套,使用石英器件小心打碎; 2. 選擇合適的石英舟,取出清潔好的石英托板和石英拉鉤; 3. 安裝樣片插入到石英舟的槽內,用石英拉鉤將石英舟推入爐管到恒溫區; 4. 爐管內壓力不得超過0.15MPa(絕對壓力),以防止壓力過大引起危險; 5.高真空下使用時),設備使用溫度不得超過1000℃; |
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服務支持 |
一年有限保修,提供終身支持(保修范圍內不包括易耗部件,例如爐管和密封圈等) |
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