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    多溫區管式爐

    發布時間:2020-07-07  瀏覽次數:2194



     

    設備簡介:

    多溫區CVD系統一體爐,供氣和真空系統靈活組合,滿足各類薄膜沉積,是半導體工業中應用最為廣泛的用來沉積薄膜材料的技術,包括大面積的絕緣材料,以及大多數金屬材料和金屬合金材料。諾巴迪成套的CVD鍍膜系統,適用于各大高校材料實驗室、科研院所、環??茖W等領域。   

     




     


    1.采用高純石英或不銹鋼材質爐管,耐腐蝕耐高溫性能優越;

    2.高純度Al2O3纖維耐火保溫材料,保溫效果優越,降低設備功耗;

    3.爐體采用雙層風冷結構工藝,自動抬升系統開啟上蓋;

    4.燒結工藝曲線設置:動態顯示設置曲線,設備燒結可預存多條工藝曲線,每條工藝曲線可自由設置;
    5、可預約燒結,實現無人值守燒結工藝曲線燒結;
    6、實時顯示燒結功率電壓等信息并記錄燒結數據,并可導出實現無紙記錄;
    7、具有實現遠程操控,實時觀測設備狀態;
    8、溫度校正:主控溫度和試樣溫度的差值,燒結全程進行非線性修正 

    9.一體化設備包含多路供氣系統,多溫區加熱系統和高真空系統;

    產品溫區

    三溫區

    四溫區

    五溫區

    六溫區

    爐管尺寸

    ?25/?50/?60/?80/?100*1600mm

    工作溫度

    ≤1150℃

    加熱區選擇

    (可定制)

    200mm*3

    200+300+200mm

    200+400+200mm

    300mm*3

    300+400+300mm

    200mm*4

    200+300+300+200mm

    200+400+400+200mm

    300mm*4

    300+400+400+300mm

    200mm*5

    300mm*5

     

    200mm*6

    300mm*6

     

    升溫速率

    ≤20℃/s

    電氣規格

    AC380V 6~10KW

    AC380V 8~14KW

    AC380V 10~15KW

    AC380V 12~18KW

    氣體系統(可選購)

    浮子或質子

    管道示意圖


     

    進氣接口數量

    2、3、4(多路可選)

    流量范圍

    20-250/20-800ml/min......(多量程可選)

    50/100/200/500sccm......(多量程可選)

    工作壓差范圍

    0-0.15MPa

    低真空系統(可選購)

    真空泵型號

    NBD-3C/NBD-4C

    抽氣速率

    3L/s或4L/s

    進排氣口尺寸

    KF16/25

    系統真空

    3~5Pa(真空泵極限真空6.2*10-2Pa)

    工作環境溫度

    5-40℃

    電氣規格

    AC220V

    高真空系統(可選購)

    真空泵型號

    NBD-103(A)

    NBD-103(B)

    抽氣速率

    110L/s

    600L/s

    真空測量計

    復合真空計

    系統真空

    4.310^-3Pa

    6*10^-4Pa

    工作溫度

    5-40℃

     

    電氣規格

    AC 220V

    AC 380V

     

    * 支持非標定做,更多型號,歡迎來電垂詢400-000-3746


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