發布時間:2020-07-07 瀏覽次數:2194
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設備簡介: 多溫區CVD系統一體爐,供氣和真空系統靈活組合,滿足各類薄膜沉積,是半導體工業中應用最為廣泛的用來沉積薄膜材料的技術,包括大面積的絕緣材料,以及大多數金屬材料和金屬合金材料。諾巴迪成套的CVD鍍膜系統,適用于各大高校材料實驗室、科研院所、環??茖W等領域。
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1.采用高純石英或不銹鋼材質爐管,耐腐蝕耐高溫性能優越; 2.高純度Al2O3纖維耐火保溫材料,保溫效果優越,降低設備功耗; 3.爐體采用雙層風冷結構工藝,自動抬升系統開啟上蓋;
4.燒結工藝曲線設置:動態顯示設置曲線,設備燒結可預存多條工藝曲線,每條工藝曲線可自由設置; 9.一體化設備包含多路供氣系統,多溫區加熱系統和高真空系統; |
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產品溫區 |
三溫區 |
四溫區 |
五溫區 |
六溫區 |
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爐管尺寸 |
?25/?50/?60/?80/?100*1600mm |
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工作溫度 |
≤1150℃ |
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加熱區選擇 (可定制) |
200mm*3 200+300+200mm 200+400+200mm 300mm*3 300+400+300mm |
200mm*4 200+300+300+200mm 200+400+400+200mm 300mm*4 300+400+400+300mm |
200mm*5 300mm*5
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200mm*6 300mm*6
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升溫速率 |
≤20℃/s |
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電氣規格 |
AC380V 6~10KW |
AC380V 8~14KW |
AC380V 10~15KW |
AC380V 12~18KW |
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氣體系統(可選購) |
浮子或質子 |
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管道示意圖 |
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進氣接口數量 |
2、3、4(多路可選) |
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流量范圍 |
20-250/20-800ml/min......(多量程可選) 50/100/200/500sccm......(多量程可選) |
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工作壓差范圍 |
0-0.15MPa |
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低真空系統(可選購) |
真空泵型號 |
NBD-3C/NBD-4C |
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抽氣速率 |
3L/s或4L/s |
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進排氣口尺寸 |
KF16/25 |
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系統真空 |
3~5Pa(真空泵極限真空6.2*10-2Pa) |
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工作環境溫度 |
5-40℃ |
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電氣規格 |
AC220V |
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高真空系統(可選購) |
真空泵型號 |
NBD-103(A) |
NBD-103(B) |
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抽氣速率 |
110L/s |
600L/s |
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真空測量計 |
復合真空計 |
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系統真空 |
4.310^-3Pa |
6*10^-4Pa |
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工作溫度 |
5-40℃ |
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電氣規格 |
AC 220V |
AC 380V |
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* 支持非標定做,更多型號,歡迎來電垂詢400-000-3746 |
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